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T/CASAS 009-2019 半绝缘碳化硅材料中痕量杂质浓度及分布的二次离子质谱检测方法
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3.52 MB
文档格式
pdf
语言
中文
类别
团体标准
更新日期
2025-07-07
关键词
杂质
离子
浓度
分布
痕量
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T∕CASAS 009-2019 半绝缘碳化硅材料中痕量杂质浓度及分布的二次离子质谱检测方法
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